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芦凤桂

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Enhancement of hardness and thermal stability of W-doped Ni 3 Al thin films at elevated temperature

发布时间：2020-06-10

发表刊物：Materials & Design

ISSN号：0264-1275

是否译文：否

发表时间：2016-08-01

论文类型：期刊论文

上一条：Microstructure and mechanical properties of sputter deposited Ni/Ni<inf>3</inf>Al multilayer films at elevated temperature

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