Structure and properties of Ti–Si–N films with ~10 at.% Si deposited using reactive magnetron sputtering with high-flux low-energy ion assistance
发布时间：2020-06-09
发表刊物：Thin Solid Films
ISSN号：0040-6090
是否译文：否
发表时间：2008-08-01
论文类型：期刊论文